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    赫爾納供應(yīng)意大利GNR分光光度計S1

    更新時間:2024-01-21

    訪問量:1875

    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商

    生產(chǎn)地址:

    簡要描述:
    赫爾納供應(yīng)意大利GNR分光光度計S1 GNR分光光度計S1 MiniLab 150將易用性、低維護(hù)成本、光學(xué)和電子元件技術(shù)結(jié)合在一起。 氬氣吹掃光學(xué)器件每天的氬氣消耗量為 10 升,使在紫外線區(qū)域也能以可大的光透明度。
    品牌其他品牌產(chǎn)地進(jìn)口

    赫爾納供應(yīng)意大利GNR分光光度計S1

    赫爾納供應(yīng)意大利GNR分光光度計S1

    赫爾納貿(mào)易優(yōu)勢供應(yīng),意大利總部直接采購,近30年進(jìn)口工業(yè)品經(jīng)驗,原裝產(chǎn)品,為您提供一對一好的解決方案貨期穩(wěn)定

    公司簡介:

    GNR 成立于 1984 年,是一家意大利分析儀器生產(chǎn)商。我們在范圍內(nèi)開發(fā)、制造和分銷光學(xué)發(fā)射光譜儀、X 射線衍射儀和 X 射線熒光儀器。

    GNR分光光度計主要產(chǎn)品:

    GNR分光光度計

    GNR分光光度計產(chǎn)品型號:

    S1

    S3

    GNR分光光度計產(chǎn)品特點:

    光學(xué)空氣系統(tǒng):多分辨率 CMOS 系統(tǒng)

    高亮度全息光柵

    使用有的低消耗氬氣裝置進(jìn)行氬氣吹掃的光學(xué)室

    對溫度波動保持穩(wěn)定

    電源:110/220V AC 16A 1KW

    尺寸:寬 50 x 59 x 31 厘米

    重量:35公斤

    GNR分光光度計產(chǎn)品應(yīng)用:

    光學(xué)發(fā)射光譜法 ( OES ) 是一種被考慮并用于確定金屬合金化學(xué)成分的分析技術(shù)。由于方法且分析時間短,它代表了金屬工業(yè)(合金鑄造廠、金屬加工工業(yè)、機械工業(yè))有領(lǐng)域在生產(chǎn)周期中時間的有效生產(chǎn)控制系統(tǒng),如果它是對材料進(jìn)行快速、準(zhǔn)確的化學(xué)分析是必要的。GNR 火花直讀光譜儀是金屬分析的儀器。

    GNR分光光度計GNR憑借其在該領(lǐng)域 35 年的經(jīng)驗,對各種分析儀進(jìn)行了調(diào)整,以便為要求提供合適的儀器。一種新的生產(chǎn)模式,以其具有競爭力的價格得了客戶的滿意。如今,MiniLab儀器是市場上小、輕的緊湊型光學(xué)發(fā)射光譜儀,在該類別中具有的分析結(jié)果。

    GNR分光光度計S1 MiniLab 150是一款多矩陣光譜儀。由于其的光學(xué)設(shè)計,它是用于金屬分析的小輕的緊湊型火花發(fā)射光譜儀之一。 S1配備了“單樣品標(biāo)準(zhǔn)化"軟件,該軟件允許僅用一個樣品對多個堿基進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化。

    GNR分光光度計S1 MiniLab 150將易用性、低維護(hù)成本、光學(xué)和電子元件技術(shù)結(jié)合在一起。 氬氣吹掃光學(xué)器件每天的氬氣消耗量為 10 升,使在紫外線區(qū)域也能以可大的光透明度。S3 MiniLab 300GNR 為其運行 30 周年而設(shè)計的火花發(fā)射光譜儀。GNR分光光度計如今,MiniLab 儀器是市場上小、輕的緊湊型光學(xué)發(fā)射光譜儀,在該類別中具有的分析結(jié)果。

    GNR分光光度計S3 MiniLab 300 為金屬分析提供了解決方案:它將易用性、低維護(hù)成本、實惠的價格與技術(shù)光學(xué)和電子元件結(jié)合在一起,以分辨率和光效率實現(xiàn)完整的光譜覆蓋。 2017 年,我們的工程師設(shè)計了型號,使S3 MiniLab 300系統(tǒng)適合通用應(yīng)用,而且還適合要求高的重型應(yīng)用。

    GNR分光光度計S3 可以現(xiàn)代鑄造廠的有分析要求,但如此。氬氣吹掃光學(xué)器件,每天的氬氣消耗量為 10 升,使在紫外線區(qū)域,也能以可忽略不計的成本的光透明度。 結(jié)果是一種新的基于 CMOS 的儀器,能夠以分析性能分析以下基體。GNR分光光度計S9 Atlantis 采用品質(zhì)的組件制造,為類型的分析任務(wù)而開發(fā)。它適合過程控制中的常規(guī)分析、質(zhì)量控制中的監(jiān)測以及復(fù)雜或特定分析需求的研發(fā)。該光譜儀可以安裝一個冷卻臺式支架和一個額外的渦輪分子泵超真空光學(xué)器件,能夠為痕量元素分析提供高的靈敏度。 


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